中国半导体机会来了！关键设备迎来重大突破，打破美企垄断局面

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关键设备迎来重大突破

半导体芯片的研发是一项很复杂的工作，不仅需要技术的支持，还离不开各种关键设备，二者缺一不可。在技术层面，其实国内并不落后于国外，像华为海思这样优秀的国产巨头也不在少数；但是在相关设备方面，国内与国外相比，就存在一定的差距了。



其中最典型的例子就是光刻机，作为芯片制造过程中的核心设备，光刻机对整个半导体产业链而言，都有着重要的作用。而且光刻机的精度与芯片的先进程度是挂钩的，只有高端的光刻机，才能生产出先进制程的芯片。
但可惜的是，截至目前全球范围内只有来自于荷兰的ASML公司能够造出高端光刻机，其它厂商都不具备这种能力。虽然国内也有一家专门研发光刻机的公司，名字叫做上海微电子，但是其产品的精度与ASML相差甚远，根本满足不了先进芯片的生产要求。



因此，很多国产半导体公司都想要与ASML建立合作关系，从而进口到几台高端的光刻机。然而受米国规则和相关协议的影响，ASML最多只能向中国企业出口中低端的光刻机，高端产品处于管制之中。
这样一来，就造成了国内高端光刻机数量严重不足的情况，直接导致了国产芯片迟迟无法取得太大的进展。就连华为创始人任正非都曾表示：海思虽然能设计出先进的芯片，但是以国内的基础工业水平根本造不出来，这就是缺少高端光刻机带来的后果。



为此，从去年下半年开始，国内就加大了对光刻机研发工作的投入力度，包括华为、中科院在内的公司或机构，也都宣布了入局光刻机的决定。可以预料的是，只要国内坚持自主研发，将来一定会收获回报。
而除了光刻机之外，国内在其它半导体设备方面也有需要攻克的地方，这些都是国产技术不得不面对的问题。不过，根据最新消息显示，国内有一关键设备迎来重大突破，成功地打破了美企垄断局面。



这项设备的名字叫做离子注入机，虽然知名度和重要性都比不上光刻机，但是在芯片生产过程中，同样扮演了一个不可或缺的角色。顾名思义，离子注入机的主要作用就是利表面改性技术，让芯片发生一系列物理和化学变化，朝着人们需要的方向塑形。



之前，在全球离子注入机市场，美企占据了接近垄断的地位，每年都会拿走70%以上的份额，而我们国内则对它们存在一定的依赖。但是现在情况不一样了，日前中国电子科技集团正式宣布，离子注入机已经实现了自主化生产，并且精度达到了28nm。



中国半导体机会来了

也就是说，在布局光刻机的同时，我们国内又攻克了一项关键设备，离子注入机的突破将为国产芯片带来新的希望。因此，对于国内接连不断传来的好消息，很多国人都表示：中国半导体机会来了！



虽然在芯片制造领域，目前国产技术还无法自食其力，仍然离不开国外的支持，但这只是一个开始，只要国内继续突破下去，总有一天会实现自主化的目标。而且随着米国规则的持续作用，不止是光刻机和离子注入机，未来国内将会解决更多的“卡脖子”问题。
因为华为和米国之间的博弈向所有国产公司揭示了一个道理：只有用技术强大自身，才不会被外界的压力击垮！



写在最后

综上所述，目前国内的半导体产业正在朝着好的方向发展，除了技术稳步突破之外，关键设备也开始打破垄断，这预示着中国芯片即将崛起。希望接下来国产公司能够再接再厉，争取带来更多的好消息，让中国芯的名字响彻世界！
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